リソグラフィ装置

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製品紹介

マガジン式供給専用の高精度マスクアライメント露光装置で、自動供給、マスク・ウェーハのレベル調整、表裏自動位置合わせ、露光、自動排出を実現。同時にクラス100のクリーンルーム要件を満たす。MEMS製造、CMOSイメージセンサー、メモリ、音響デバイス、マイクロ流体チップ、化合物半導体などの分野に適用される。


● 自動平行調整機構を採用し、マスクとウェーハ間の近接ギャップを高精度に設定可能。

● 独自の高速画像処理技術により、高精度な位置合わせを実現。

● 複数セットのビジョンシステムを活用し、ウェーハ表裏両面の自動位置合わせを実現(オプション)。

● 画像処理技術により、薄型基板や反り基板、水晶などの脆性ウェーハにも対応可能なプレアライメントを実現(オプション)。

● 独自の接触圧力精密制御機構により、ウェーハとマスクの高精度接近を実現。

● ウェーハ背面マニピュレータによる真空吸着方式で、高速・高精度かつ安定した自動搬送を実現。


製品仕様

プロジェクト 仕様
マスクサイズ 4インチ&5インチ
光源タイプ 水銀灯/輸入LED(選択可能)
光源波長 365nmなど複数波長から選択可能
光源出力 500-2000標準値 カスタマイズ可能
位置決め精度 1.6μm(3σ)
重ね合わせ精度 2um(3σ)
伝送方式 ロボットアームによる搬送
露光方式 真空接触露光、ソフト接触露光、近接式露光
生産効率 転送15秒+露光時間
装置サイズ 1640mm×1140mm×1800mm
装置重量 1200kg